Беларусь и РФ осуществили прорыв в производстве микросхем – что придумали

Беларусь и Россия смогли изготовить опытный образец литографа на 130 нм. Об этом заявил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров, пишет ТАСС.

Он отметил, что для устройства был разработан собственный эксимерный лазер, что позволило России войти в узкий круг стран, владеющих этой технологией.

Развивается и электронно-лучевая литография, которая применяется в том числе для изготовления фотошаблонов.

Мантуров сообщил, что проект предусматривает поэтапное освоение топологических норм вплоть до 28-нанометровых стадий производства микросхем.

"Параллельно наращиваются компетенции в области материалов и химических продуктов. За последние три года здесь освоено производство порядка 60 критически важных позиций, еще примерно столько же наименований должны выйти на рынок в 2029 году", – добавил первый вице-премьер.

Для чего нужен литограф

В современном мире литографы считаются одними из самых важных инструментов. С их помощью создаются высокоточные микроструктуры на полупроводниковых материалах, которые формируют интегральные схемы и чипы, необходимые для работы ИИ-ускорителей и других компонентов.

Эта технология позволяет задавать топологию и размеры элементов на кремниевых пластинах, обеспечивая высокую плотность размещения транзисторов и другие ключевые характеристики электронных устройств.

В мире совсем немного фирм выпускают литографы. Это компания ASML из Нидерландов, на которую приходится около 90% всех продаж, а также японские Nikon (6%) и Canon (3%). Остальные игроки занимают ничтожно малую долю.